Plasma Spray Parameters of TiO2 Targets Used in Magnetron Sputtering
La síntesis de películas delgadas por pulverización catódica o sputtering requiere la utilización de blancos o targets, que actúan como los materiales a partir de los cuales se elaboran los recubrimientos. Este trabajo está enfocado en la implementación del proceso de proyección térmica por plasma a...
- Autores:
-
Jaramillo-Raquejo, Daniela
Palacio-Espinosa, Claudia Constanza
Ageorges, Hélène
- Tipo de recurso:
- Article of journal
- Fecha de publicación:
- 2020
- Institución:
- Instituto Tecnológico Metropolitano
- Repositorio:
- Repositorio ITM
- Idioma:
- spa
- OAI Identifier:
- oai:repositorio.itm.edu.co:20.500.12622/4602
- Acceso en línea:
- https://revistas.itm.edu.co/index.php/tecnologicas/article/view/1320
http://hdl.handle.net/20.500.12622/4602
- Palabra clave:
- Proyección por plasma atmosférico
fabricación de blancos
sputtering
porosidad
rutilo
Atmospheric Plasma Spray
target manufacturing
sputtering
porosity
rutile
- Rights
- License
- Copyright (c) 2020 TecnoLógicas