Plasma Spray Parameters of TiO2 Targets Used in Magnetron Sputtering

La síntesis de películas delgadas por pulverización catódica o sputtering requiere la utilización de blancos o targets, que actúan como los materiales a partir de los cuales se elaboran los recubrimientos. Este trabajo está enfocado en la implementación del proceso de proyección térmica por plasma a...

Full description

Autores:
Jaramillo-Raquejo, Daniela
Palacio-Espinosa, Claudia Constanza
Ageorges, Hélène
Tipo de recurso:
Article of journal
Fecha de publicación:
2020
Institución:
Instituto Tecnológico Metropolitano
Repositorio:
Repositorio ITM
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repositorio.itm.edu.co:20.500.12622/4602
Acceso en línea:
https://revistas.itm.edu.co/index.php/tecnologicas/article/view/1320
http://hdl.handle.net/20.500.12622/4602
Palabra clave:
Proyección por plasma atmosférico
fabricación de blancos
sputtering
porosidad
rutilo
Atmospheric Plasma Spray
target manufacturing
sputtering
porosity
rutile
Rights
License
Copyright (c) 2020 TecnoLógicas