Performance characterization of an xy-stage applied to micrometric laser direct writing lithography

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Autores:
Jaramillo J.
Zarzycki A.
Galeano J.
Sandoz P.
Tipo de recurso:
Fecha de publicación:
2017
Institución:
Instituto Tecnológico Metropolitano
Repositorio:
Repositorio ITM
Idioma:
OAI Identifier:
oai:repositorio.itm.edu.co:20.500.12622/3479
Acceso en línea:
http://hdl.handle.net/20.500.12622/3479
Palabra clave:
Rights
License
http://purl.org/coar/access_right/c_14cb