Deposición de óxido de titanio para la formación de películas por medio de HFCVD y electrodeposición

ilustraciones, gráficos, tablas

Autores:
Valbuena Niño, Maria Paula
Tipo de recurso:
Trabajo de grado de pregrado
Fecha de publicación:
2014
Institución:
Universidad de los Andes
Repositorio:
Séneca: repositorio Uniandes
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repositorio.uniandes.edu.co:1992/19499
Acceso en línea:
http://hdl.handle.net/1992/19499
Palabra clave:
Dióxido de titanio
Electrodeposición
Películas delgadas - Investigaciones
Ingeniería
Rights
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