An optical diffuse reflectance model for the characterization of a si wafer with an evaporated SiO2 layer
892
- Autores:
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Zarzycki A.
Galeano J.
Bargiel S.
Andrieux A.
Gorecki C.
- Tipo de recurso:
- Fecha de publicación:
- 2019
- Institución:
- Instituto Tecnológico Metropolitano
- Repositorio:
- Repositorio ITM
- Idioma:
- OAI Identifier:
- oai:repositorio.itm.edu.co:20.500.12622/3173
- Acceso en línea:
- http://hdl.handle.net/20.500.12622/3173
- Palabra clave:
- Rights
- License
- http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
| Summary: | 892 |
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