Reconstrucción del perfil de índice de refracción de una fibra óptica de silicio puro por el método de los elementos finitos y el patrón de campo cercano
El presente trabajo muestra una técnica para reconstruir el perfil de índice de refracción (PIR) de fibras ópticas, basado en la comparación de los patrones de intensidad del modo de propagación fundamental obtenido experimentalmente y el logrado teóricamente a través del método de elementos finitos...
- Autores:
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Castrillón-Gallego, Luis F.
- Tipo de recurso:
- Article of journal
- Fecha de publicación:
- 2007
- Institución:
- Instituto Tecnológico Metropolitano
- Repositorio:
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- Acceso en línea:
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Castrillón-Gallego, Luis F.2019-07-18T14:12:19Z2019-08-14T14:50:07Z2019-07-18T14:12:19Z2019-08-14T14:50:07Z2007-06-26https://revistas.itm.edu.co/index.php/tecnologicas/article/view/47910.22430/22565337.479http://hdl.handle.net/20.500.12622/766El presente trabajo muestra una técnica para reconstruir el perfil de índice de refracción (PIR) de fibras ópticas, basado en la comparación de los patrones de intensidad del modo de propagación fundamental obtenido experimentalmente y el logrado teóricamente a través del método de elementos finitos, utilizando una función de mérito para ajustar parámetros. Para validar la técnica se aplica a una fibra de núcleo de silicio puro cuyo perfil de índice de refracción ha sido medido por el método de campo cercano refractado (RNF).The purpose of this work is to show a technique to reconstruct the proflie of the index of refraction (PIR) of optic fiber, based on the comparision of the patterns of intensity of the mode of fundamental propagation base on experimentation, and the one obtained theoretically by means of the method of finite elements, using a merit function to adjust parameters. In order to validate the technique, a pure silicon nucleus fiber whose index of refraction has be en measured by the method of the refracted field near (RFN) is applied.application/pdfspaInstituto Tecnológico Metropolitano (ITM)https://revistas.itm.edu.co/index.php/tecnologicas/article/view/479/564TecnoLógicasCopyright (c) 2017 Tecno Lógicashttp://purl.org/coar/access_right/c_abf22256-53370123-7799TecnoLógicas; Num. 18 (2007); 83-102TecnoLógicas; Num. 18 (2007); 83-102Perfil de índicefibra ópticaelementos finitoscampo cercanoIndex profileoptical fiberfinite elementsnear field.Reconstrucción del perfil de índice de refracción de una fibra óptica de silicio puro por el método de los elementos finitos y el patrón de campo cercanoReconstrucción del perfil de índice de refracción de una fibra óptica de silicio puro por el método de los elementos finitos y el patrón de campo cercanoinfo:eu-repo/semantics/articleArticlesArtículoshttp://purl.org/coar/resource_type/c_6501http://purl.org/coar/resource_type/c_2df8fbb1http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85PublicationORIGINAL479-Manuscrito-757-1-10-20170313.pdf479-Manuscrito-757-1-10-20170313.pdfapplication/pdf6251716https://dspace-itm.metabuscador.org/bitstreams/948dba03-5711-411c-9614-b59ad696e41a/download2a6f26b33f45d10d4c94c93602dde7b2MD51trueAnonymousREADTHUMBNAIL479-Manuscrito-757-1-10-20170313.pdf.jpg479-Manuscrito-757-1-10-20170313.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg4372https://dspace-itm.metabuscador.org/bitstreams/14cc097f-5f9a-4769-a6db-45e7a138d1df/downloadef6745b368eb5eceae4d85e7189b5d8eMD52falseAnonymousREADTEXT479-Manuscrito-757-1-10-20170313.pdf.txt479-Manuscrito-757-1-10-20170313.pdf.txtExtracted texttext/plain29136https://dspace-itm.metabuscador.org/bitstreams/48de8eac-777b-4b8d-a1e8-29659f007cac/downloadcfa7afac3adda1adae12000a49be8e19MD53falseAnonymousREAD20.500.12622/766oai:dspace-itm.metabuscador.org:20.500.12622/7662025-06-24 09:30:13.896open.accesshttps://dspace-itm.metabuscador.orgRepositorio Instituto Tecnológico Metropolitano de Medellínbdigital@metabiblioteca.com |
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El presente trabajo muestra una técnica para reconstruir el perfil de índice de refracción (PIR) de fibras ópticas, basado en la comparación de los patrones de intensidad del modo de propagación fundamental obtenido experimentalmente y el logrado teóricamente a través del método de elementos finitos, utilizando una función de mérito para ajustar parámetros. Para validar la técnica se aplica a una fibra de núcleo de silicio puro cuyo perfil de índice de refracción ha sido medido por el método de campo cercano refractado (RNF). |
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