Posicionamiento y ubicación de una válvula de control en un sistema de distribución de vapor en serie con un medidor con característica indirecta

Este documento expone el comportamiento de un sistema de vapor en función de la posición de una válvula de control, analizando sus variaciones y respuestas mediante mediciones indirectas. Se destaca la importancia de monitorear este sistema de manera remota, lo que evita la manipulación directa y po...

Full description

Autores:
Becerra Cáceres, Johans Haymeritd
Tipo de recurso:
Trabajo de grado de pregrado
Fecha de publicación:
2025
Institución:
Universidad Francisco de Paula Santander
Repositorio:
Repositorio Digital UFPS
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repositorio.ufps.edu.co:ufps/9773
Acceso en línea:
https://repositorio.ufps.edu.co/handle/ufps/9773
Palabra clave:
Interfaz HMI
Modelos matemáticos
Monitoreo remoto
Sistema de vapor
Válvula de control
Rights
openAccess
License
Derechos Reservados - Universidad Francisco de Paula Santander, 2025