Posicionamiento y ubicación de una válvula de control en un sistema de distribución de vapor en serie con un medidor con característica indirecta
Este documento expone el comportamiento de un sistema de vapor en función de la posición de una válvula de control, analizando sus variaciones y respuestas mediante mediciones indirectas. Se destaca la importancia de monitorear este sistema de manera remota, lo que evita la manipulación directa y po...
- Autores:
-
Becerra Cáceres, Johans Haymeritd
- Tipo de recurso:
- Trabajo de grado de pregrado
- Fecha de publicación:
- 2025
- Institución:
- Universidad Francisco de Paula Santander
- Repositorio:
- Repositorio Digital UFPS
- Idioma:
- spa
- OAI Identifier:
- oai:repositorio.ufps.edu.co:ufps/9773
- Acceso en línea:
- https://repositorio.ufps.edu.co/handle/ufps/9773
- Palabra clave:
- Interfaz HMI
Modelos matemáticos
Monitoreo remoto
Sistema de vapor
Válvula de control
- Rights
- openAccess
- License
- Derechos Reservados - Universidad Francisco de Paula Santander, 2025
