Posicionamiento y ubicación de una válvula de control en un sistema de distribución de vapor en serie con un medidor con característica indirecta

Este documento expone el comportamiento de un sistema de vapor en función de la posición de una válvula de control, analizando sus variaciones y respuestas mediante mediciones indirectas. Se destaca la importancia de monitorear este sistema de manera remota, lo que evita la manipulación directa y posibles interferencias en el entorno operativo. A partir del funcionamiento fundamental de la planta, se llevan a cabo investigaciones para establecer fundamentos sólidos que permitan un análisis desde la perspectiva de los procesos termodinámicos y los comportamientos de los fluidos. Para ello, se desarrollan modelos matemáticos representativos de actuadores y sensores, simulados de forma precisa con software especializado en procesamiento matemático, como MATLAB y Simulink. Dichos modelos permiten comprobar los comportamientos básicos del sistema y evaluar la interacción entre las ubicaciones del vapor y un actuador, verificando su respuesta y estabilidad. El software LabVIEW se utiliza en la creación de estas interfaces, mientras el control del proceso se integra en los cálculos matemáticos de la planta. Asimismo, se emplean tecnologías de radiofrecuencia y gestión de bases de datos.

• Autores: Becerra Cáceres, Johans Haymeritd
• Tipo de recurso: Trabajo de grado de pregrado
• Fecha de publicación: 2025
• Institución: Universidad Francisco de Paula Santander
• Repositorio: Repositorio Digital UFPS
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.ufps.edu.co:ufps/9773
• Acceso en línea: https://repositorio.ufps.edu.co/handle/ufps/9773
• Palabra clave: Interfaz HMI; Modelos matemáticos; Monitoreo remoto; Sistema de vapor; Válvula de control
• Rights: openAccess
• License: Derechos Reservados - Universidad Francisco de Paula Santander, 2025