Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial
In this degree project, thin films of the ternary compound CuSbS2 were developed, which have a calcostibite structure deposited sequentially. In this way, laboratory-scale studies were carried out on the parameters of each solution used to make these films, which are divided into two layers of diffe...
- Autores:
- Tipo de recurso:
- Fecha de publicación:
- 2020
- Institución:
- Universidad de América
- Repositorio:
- Lumieres
- Idioma:
- spa
- OAI Identifier:
- oai:repository.uamerica.edu.co:20.500.11839/8005
- Acceso en línea:
- https://hdl.handle.net/20.500.11839/8005
- Palabra clave:
- Electrodeposición
Película delgada
Relación de espesores
Electrodeposición
Thin film
Thickness ratio
Tesis y disertaciones académicas
- Rights
- License
- Atribución – No comercial
| id |
Lumieres_00879bc048b8933fa76bb4317da2a4d3 |
|---|---|
| oai_identifier_str |
oai:repository.uamerica.edu.co:20.500.11839/8005 |
| network_acronym_str |
Lumieres |
| network_name_str |
Lumieres |
| repository_id_str |
|
| dc.title.none.fl_str_mv |
Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial Development and characterization of thin films deposited by the electro-deposition technique of the copper/antimony layer in the ternary compound CuSbS2 in a sequential way |
| title |
Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial |
| spellingShingle |
Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial Electrodeposición Película delgada Relación de espesores Electrodeposición Thin film Thickness ratio Tesis y disertaciones académicas |
| title_short |
Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial |
| title_full |
Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial |
| title_fullStr |
Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial |
| title_full_unstemmed |
Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial |
| title_sort |
Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial |
| dc.contributor.none.fl_str_mv |
Quiñones Segura, César Augusto |
| dc.subject.none.fl_str_mv |
Electrodeposición Película delgada Relación de espesores Electrodeposición Thin film Thickness ratio Tesis y disertaciones académicas |
| topic |
Electrodeposición Película delgada Relación de espesores Electrodeposición Thin film Thickness ratio Tesis y disertaciones académicas |
| description |
In this degree project, thin films of the ternary compound CuSbS2 were developed, which have a calcostibite structure deposited sequentially. In this way, laboratory-scale studies were carried out on the parameters of each solution used to make these films, which are divided into two layers of different material and were deposited by the electrodeposition technique sequentially with two electrodes, the first layer copper and the second antimony in a substrate / Mo system, the bilayer was subsequently sulfurized obtaining the copper sulfide and antimony compound. For this, different variables such as voltage, concentration, temperature and pulses were evaluated, according to the compound around the growth of the film, its uniformity and its composition. To perform the bilayer, acid solutions with fixed potential were prepared with the aid of the pulsating current technique (PDC). |
| publishDate |
2020 |
| dc.date.none.fl_str_mv |
2020-09-03T20:16:57Z 2020-09-03T20:16:57Z 2020-07-01 |
| dc.type.none.fl_str_mv |
bachelorThesis |
| dc.type.coar.fl_str_mv |
http://purl.org/coar/resource_type/c_7a1f |
| dc.identifier.none.fl_str_mv |
APA 7th - Mossos Pitre, V. (2020) Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial [Trabajo de grado, Fundación Universidad de América] Repositorio Institucional Lumieres. https://hdl.handle.net/20.500.11839/8005 https://hdl.handle.net/20.500.11839/8005 |
| identifier_str_mv |
APA 7th - Mossos Pitre, V. (2020) Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial [Trabajo de grado, Fundación Universidad de América] Repositorio Institucional Lumieres. https://hdl.handle.net/20.500.11839/8005 |
| url |
https://hdl.handle.net/20.500.11839/8005 |
| dc.language.iso.fl_str_mv |
spa |
| language |
spa |
| dc.rights.none.fl_str_mv |
Atribución – No comercial http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 |
| rights_invalid_str_mv |
Atribución – No comercial http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 |
| dc.format.none.fl_str_mv |
application/pdf application/pdf |
| dc.publisher.none.fl_str_mv |
Fundación Universidad de América |
| publisher.none.fl_str_mv |
Fundación Universidad de América |
| institution |
Universidad de América |
| repository.name.fl_str_mv |
|
| repository.mail.fl_str_mv |
|
| _version_ |
1841553092165763072 |
| spelling |
Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencialDevelopment and characterization of thin films deposited by the electro-deposition technique of the copper/antimony layer in the ternary compound CuSbS2 in a sequential wayElectrodeposiciónPelícula delgadaRelación de espesoresElectrodeposiciónThin filmThickness ratioTesis y disertaciones académicasIn this degree project, thin films of the ternary compound CuSbS2 were developed, which have a calcostibite structure deposited sequentially. In this way, laboratory-scale studies were carried out on the parameters of each solution used to make these films, which are divided into two layers of different material and were deposited by the electrodeposition technique sequentially with two electrodes, the first layer copper and the second antimony in a substrate / Mo system, the bilayer was subsequently sulfurized obtaining the copper sulfide and antimony compound. For this, different variables such as voltage, concentration, temperature and pulses were evaluated, according to the compound around the growth of the film, its uniformity and its composition. To perform the bilayer, acid solutions with fixed potential were prepared with the aid of the pulsating current technique (PDC).En este proyecto de grado se desarrollaron películas delgadas del compuesto ternario CuSbS2 el cual posee una estructura calcostibita depositadas secuencialmente. De esta manera, se realizaron estudios a escala laboratorio sobre los parámetros de cada solución empleada para la elaboración de estas películas, las cuales se dividen en dos capas de diferente material y fueron depositadas por la técnica de electrodeposición secuencialmente con dos electrodos, la primera capa de cobre y la segunda de antimonio en un sistema sustrato/Mo, posteriormente se realizó la sulfurización de la bicapa obteniendo el compuesto sulfuro de cobre y antimonio. Para ello se evaluaron diferentes variables como voltaje, concentración, temperatura y pulsos, según el compuesto en torno al crecimiento de la película, su uniformidad y su composición. Para realizar la bicapa se prepararon soluciones ácidas con potencial fijo, con ayuda de la técnica de corriente pulsante (PDC).Fundación Universidad de AméricaQuiñones Segura, César AugustoMossos Pitre, Valentina2020-09-03T20:16:57Z2020-09-03T20:16:57Z2020-07-01bachelorThesishttp://purl.org/coar/resource_type/c_7a1fapplication/pdfapplication/pdfAPA 7th - Mossos Pitre, V. (2020) Desarrollo y caracterización de películas delgadas depositadas por la técnica de electrodeposición de la capa de cobre/antimonio en el compuesto ternario CuSbS2 de manera secuencial [Trabajo de grado, Fundación Universidad de América] Repositorio Institucional Lumieres. https://hdl.handle.net/20.500.11839/8005https://hdl.handle.net/20.500.11839/8005Atribución – No comercialYo (nosotros) en calidad de titular(es) de la obra, autorizo (autorizamos) al Sistema de Bibliotecas de la Fundación Universidad América para que incluya una copia, indexe y divulgue en el Repositorio Digital Institucional – Lumieres, la obra mencionada con el fin de facilitar los procesos de visibilidad e impacto de la misma, conforme a los derechos patrimoniales que me(nos) corresponde(n) y que incluyen: la reproducción, comunicación pública, distribución al público, transformación, en conformidad con la normatividad vigente sobre derechos de autor y derechos conexos (Ley 23 de 1982, Ley 44 de 1993, Decisión Andina 351 de 1993, entre otras). Al respecto como Autor(es) manifestamos conocer que: - La autorización es de carácter no exclusiva y limitada, esto implica que la licencia tiene una vigencia, que no es perpetua y que el autor puede publicar o difundir su obra en cualquier otro medio, así como llevar a cabo cualquier tipo de acción sobre el documento. - La autorización tendrá una vigencia de cinco años a partir del momento de la inclusión de la obra en el repositorio, prorrogable indefinidamente por el tiempo de duración de los derechos patrimoniales del autor y podrá darse por terminada una vez el autor lo manifieste por escrito a la institución, con la salvedad de que la obra es difundida globalmente y cosechada por diferentes buscadores y/o repositorios en Internet, lo que no garantiza que la obra pueda ser retirada de manera inmediata de otros sistemas de información en los que se haya indexado, diferentes al Repositorio Digital Institucional – Lumieres de la Fundación Universidad América. - La autorización de publicación comprende el formato original de la obra y todos los demás que se requiera, para su publicación en el repositorio. Igualmente, la autorización permite a la institución el cambio de soporte de la obra con fines de preservación (impreso, electrónico, digital, Internet, intranet, o cualquier otro formato conocido o por conocer). - La autorización es gratuita y se renuncia a recibir cualquier remuneración por los usos de la obra, de acuerdo con la licencia establecida en esta autorización. - Al firmar esta autorización, se manifiesta que la obra es original y no existe en ella ninguna violación a los derechos de autor de terceros. En caso de que el trabajo haya sido financiado por terceros, el o los autores asumen la responsabilidad del cumplimiento de los acuerdos establecidos sobre los derechos patrimoniales de la obra. - Frente a cualquier reclamación por terceros, el o los autores serán los responsables. En ningún caso la responsabilidad será asumida por la Fundación Universidad de América. - Con la autorización, la Universidad puede difundir la obra en índices, buscadores y otros sistemas de información que favorezcan su visibilidad.http://purl.org/coar/access_right/c_abf2spaoai:repository.uamerica.edu.co:20.500.11839/80052025-02-01T09:12:11Z |