Producción y caracterización de recubrimientos de multicapas de TiN / ZrN por PAPVD por arco pulsado (2003)
En este trabajo se estudia el crecimiento y caracterización de las pel ículas delgadas de TiN y ZrN crecidas en forma de monocapas, bicapas y multicapas, utilizando la técnica de Deposición Física en Fase de Vapor asistida por Plasma (PAPVD) por arco pulsado. El crecimiento de los recubrimientos se realizó a diferente número de descargas. Por medio de la difracción de rayos X (XRD) se pudo identificar que tanto para el TiN como para el ZrN, el plano de mayor intensidad se da en la orientación (200) y este comportamiento se mantiene para los diferentes diseños de las películas (monocapas, bicapas y multicapas). El Coeficiente de Textura para la orientación (200) para ambos nitruros presente en las monocapas y multicapas decrece a medida que aumenta el número de descargas. El tamaño cristalito promedio se mantiene relativamente constante para el TiN y ZrN presente en los diferentes diseños de las películas. El comportamiento de las microdeformaciones del ZrN es creciente a medida que aumenta en número de descargas. Con la microscopía de fuerza atómica (AFM) se caracterizó las películas desde el punto de vista morfológico, determinando parámetros como la rugosidad rms y tamaño de grano. Se determinó que el ZrN tiene menor coeficiente de fricción que el TiN, y para ello se empleo la técnica de microscopia de fuerza lateral (LFM). Con espectroscopia de energía dispersiva de rayos X (EDX) y fotoelectrones de rayos X (XPS) se caracterizó elementalmente los recubrimientos, en los que se identificó los elementos constitutivos de las películas. Y además se pudo concluir que el Z r-N tiene mayor presencia de nitrógeno que en el Ti-N. Con el perfil de profundidad se verificó que el crecimiento de las películas es por multicapas. (Texto tomado de la fuente)