Desarrollo e implementación de un equipo de galvanoplastia basado en instrumentación virtual, utilizando tres técnicas (DC, PC, ICP) de deposición (2006)
Este trabajo muestra el desarrollo de un equipo versátil, para realizar procesos de galvanoplastia por diferentes métodos (corriente directa, corriente pulsante, corriente pulsante inversa). El equipo se basa en instrumentación virtual. Esto hace que el equipo sea muy sencillo, pues todo el control del mismo es fácilmente configurable a través de paneles virtuales. Consta de un rectificador para manejo hasta de 30 Amperios, el cual es controlado por una tarjeta AD/DA. Este equipo se diseño para que proporcione una corriente pulsante capaz de soportar rangos hasta de 30 amperios, voltaje de 30 voltios pico y tiempos del orden de los milisegundos. El software se desarrollo con labview 7.0, el cual permite controlar y monitorear el tiempo catódico, tiempo anódico, voltaje catódico, voltaje anódico, número de ciclos, periodo de muestreo, tiempo de electro deposición y carga consumida. Lo cual permite determinar la carga de deposición en función de la corriente y en periodos de tiempo seleccionado por el usuario. Este equipo fue evaluado para hacer depósitos de baños de Cu/Ni, los cuales fueron evaluados en función de la corrosión.